H360Df, H373, H410, P264, P280, P311, P301+P310 et P304+P340
H360Df : Peut nuire au fœtus. Susceptible de nuire à la fertilité. H373 : Risque présumé d'effets graves pour les organes (indiquer tous les organes affectés, s'ils sont connus) à la suite d'expositions répétées ou d'une exposition prolongée (indiquer la voie d'exposition s'il est formellement prouvé qu'aucune autre voie d'exposition ne conduit au même danger) H410 : Très toxique pour les organismes aquatiques, entraîne des effets à long terme P264 : Se laver … soigneusement après manipulation. P280 : Porter des gants de protection/des vêtements de protection/un équipement de protection des yeux/du visage. P311 : Appeler un CENTRE ANTIPOISON ou un médecin. P301+P310 : En cas d'ingestion : appeler immédiatement un CENTRE ANTIPOISON ou un médecin. P304+P340 : En cas d'inhalation : transporter la victime à l’extérieur et la maintenir au repos dans une position où elle peut confortablement respirer.
Numéro ONU : 3077 : MATIÈRE DANGEREUSE DU POINT DE VUE DE L’ENVIRONNEMENT, SOLIDE, N.S.A. Classe : 9 Étiquette : 9 : Matières et objets dangereux divers Emballage : Groupe d'emballage III : matières faiblement dangereuses.
Le séléniure de plomb peut être obtenu par une réaction en plusieurs étapes de sélénium avec de l'acide nitrique HNO3, de l'ammoniac NH3 et de l'oxyde de plomb(II) PbO :
Les monocristaux de séléniure de plomb sont synthétisés à partir de quantités précisément stœchiométriques des deux éléments dans des tubes de quartz sous vide[9] :
Des nanotigesmonocristallines et des nanotubespolycristallins ont été obtenus à l'aide de membranes biologiques. Le diamètre des nanotiges obtenues était de l'ordre de 45nm pour une longueur d'environ 1,1 µm, tandis que les nanotubes avaient un diamètre d'environ 50nm et une longueur pouvant atteindre 2 µm[10].
Le séléniure de plomb est capable de détecter un rayonnement infrarouge dans la fenêtre infrarouge moyenne (MWIR), précisément de 1,5 à 5,2 µm, voire jusqu'à 6 µm dans certaines conditions. Il présente une détectivité élevée à température ambiante (fonctionnement non refroidi) ainsi qu'un temps de réponse très bref, ce qui en fait un bon matériau pour l'imagerie infrarouge rapide et bon marché[15].
Également appelée dépôt en bain chimique (CBD), c'est la méthode standard de production de ces composants[16]. Développée aux États-Unis dans les années 1960, elle repose sur la précipitation du chalcogénuremétallique sur un substrat dans une solution contrôlée de sélénourée Se=C(NH2)2, d'acétate de plomb(II) Pb(CH3COO)2, d'iodure de potassium KI et d'autres composés. Cette méthode est encore employée pour la production de détecteurs infrarouges au séléniure de plomb. Les limitations de cette méthode contraignent la taille maximum des détecteurs PbSe produits de cette manière à un réseau de 1 × 256 éléments.
Cette méthode a été développée en Espagne au début du siècle[17] et repose sur la déposition de la couche active à partir de précurseurssublimés, suivie par des traitements thermiques particuliers. L'avantage de cette méthode par rapport à la précédente est d'assurer la compatibilité avec les substrats et de pouvoir produire des composants à structure complexe tout en maîtrisant les coûts[18].
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↑(en) G. Vergara, R. Linares-Herrero, R. Gutiérrez-Álvarez, M. T. Montojo, C. Fernández-Montojo, A. Baldasano-Ramírez et G. Fernández-Berzosa, « VPD PbSe technology fills the existing gap in uncooled low-cost and fast IR imagers », Proceedings of the SPIE, vol. 8012, , article no 80121Q (DOI10.1117/12.884018, Bibcode2011SPIE.8012E..1QV, lire en ligne)