유도 결합 플라스마

유도 결합 플라스마(inductively coupled plasma, ICP) 또는 변합기 결합 플라스마(transformer coupled plasma, TCP)^[1]는 전자기 유도, 즉 시변 자기장에 의해 생성되는 전류에 의해 에너지가 공급되는 플라스마 소스(source)의 일종이다.^[2]

응용

같이 보기

유도 플라스마

각주

↑ High density fluorocarbon etching of silicon in an inductively coupled plasma: Mechanism of etching through a thick steady state fluorocarbon layer 보관됨 2016-02-07 - 웨이백 머신 T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrleinc
↑ A. Montaser and D. W. Golightly, 편집. (1992). 《Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry》. VCH Publishers, Inc., New York.

[1] High density fluorocarbon etching of silicon in an inductively coupled plasma: Mechanism of etching through a thick steady state fluorocarbon layer 보관됨 2016-02-07 - 웨이백 머신 T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrleinc

[2] A. Montaser and D. W. Golightly, 편집. (1992). 《Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry》. VCH Publishers, Inc., New York.

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