ASM | |
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Logo da ASM | |
Atividade | Semicondutores |
Fundação | 1968 (56 anos) |
Fundador(es) | Arthur del Prado |
Sede | Almere |
Presidente | Benjamin Loh |
Produtos | Equipamentos para processamento de materiais semicondutores |
Website oficial | www.asm.com |
ASM (anteriormente conhecida como ASM International, originalmente conhecida como Advanced Semiconductor Materials) é uma empresa holandesa fundada em 1968 com sede em Almere, nos Países Baixos que se especializa em desenvolver e fabricar equipamentos para processamento de bolachas de silício (wafers) na indústria semicondutora.[1]
A ASM (Advanced Semiconductor Materials) foi fundada em 1968, no início da indústria semicondutora por Arthur del Prado (1931-2016), que exerceu a função de CEO até 2008. No início dos anos 1970, a ASM entrava como pioneira no mercado de fornos de deposição.[2]
Em 1975, foi fundada a ASMPT em Hong Kong que fabrica equipamentos semicondutores.[3]
Ainda nos anos 1970, ASM America foi fundada nos Estados Unidos sendo o centro para o desenvolvimento da tecnologia de deposição por epitaxia.[4]
No início dos anos 1980, foi fundada a ASM Japan, que se tornou a base para o desenvolvimento de Deposição química em fase vapor realçada por plasma.
Nos meados dos anos 1980, a ASM e a Philips se juntam para desenvolver tecnologias de litografia em uma companhia que hoje é conhecida como ASML.[5]
Em 1988, a ASM vende suas ações da ASML.
Em 1999, a ASM adquire a ASM Microchemistry.[6]
Em 2004, a ASM adquire a ASM Genitech Korea.[7]
Em 2008,, Arthur del Prado deixa o cargo de CEO para seu filho Chuck del Prado.[8]
Em 2020, Chuck del Prado se aposenta da posição de CEO,[9] é sucedido por Benjamin Loh como CEO.[10]
Em 2022, a ASM adquire a LPE.[11]
Equipamentos para processamento por Atomic Layer Deposition (ALD) são os maiores produtos da empresa, sendo responsáveis por mais da metade da receita em 2022. ALD é a mais avançada tecnologia de deposição de filmes ultra finos.[1][12]
Produtos nesta categoria incluem:
Equipamentos para processamento de filmes cristalinos de silício por Epitaxia são os segundo maiores produtos em receita, sendo o mercado aquecido por uma maior demanda de clientes produtores de dispositivos lógicos e fundições na medida em que eles desenvolvem nodos cada vez menores.[12][13]
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No último trimestre de 2022, a empresa italiana chamada LPE, que desenvolve reatores de epitaxia de SiC e silício, foi aquisitada por €425 milhoes de euros para suprir a crescente demanda da indústria automotiva.[12][11]
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PECVD se utiliza de plasma para enaltecer deposição química em fase vapor (do inglês Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD) para depositar filmes dielétricos (low-k) à relativas baixas temperaturas.[12][14]
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Os Fornos verticais (Vertical Furnaces) realizam uma série de processos térmicos incluindo difusão, oxidação e Deposição química em fase vapor à baixa pressão (Low Pressure Chemical Vapor Deposition - LPCVD).[12]
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