Hexafluoroetano

Hexafluoroetano
Alerta sobre risco à saúde
Outros nomes Carbon hexafluoride, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, Halocarbon 116, PFC-116, CFC-116, R-116, Arcton 116, Halon 2600, UN 2193
Identificadores
Número CAS 76-16-4
PubChem 6431
Número EINECS 200-939-8
ChemSpider 6191
ChEBI 32905
Número RTECS KI4110000
SMILES
InChI
1/C2F6/c3-1(4,5)2(6,7)8
Propriedades
Fórmula molecular C2F6
Massa molar 138.01 g.mol−1
Aparência Colorless odorless gas
Densidade 5.734 kg.m−3 at 24 °C
Ponto de fusão

−100.6 °C, 173 K, -149 °F

Ponto de ebulição

−78.2 °C, 195 K, -109 °F

Solubilidade em água 0.0015%
log P 2
kH 0.000058 mol.kg−1.bar−1
Riscos associados
NFPA 704
0
1
0
 
Ponto de fulgor Non-flammable
Página de dados suplementares
Estrutura e propriedades n, εr, etc.
Dados termodinâmicos Phase behaviour
Solid, liquid, gas
Dados espectrais UV, IV, RMN, EM
Exceto onde denotado, os dados referem-se a
materiais sob condições normais de temperatura e pressão
Referências e avisos gerais sobre esta caixa.
Alerta sobre risco à saúde.

O hexafluoroetano é a o perfluorocarbono equivalente ao hidrocarboneto etano. É um gás não inflamável pouco solúvel em água e pouco solúvel em álcool. É um gás de efeito estufa extremamente potente e de longa duração.

Propriedades físicas

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A fase sólida do hexafluoroetano tem dois polimorfos. Na literatura científica, têm sido indicadas diferentes temperaturas de transição de fase. Os trabalhos mais recentes a transição a 103 Kelvin (−170°C). Abaixo de 103 K tem uma estrutura levemente desordenada, e acima do ponto de transição tem uma estrutura cúbica de corpo centrado. [1] O ponto crítico está em 19,89 °C (293,04 K) e 30,39 bar. [2]

Estado, temperatura Densidade (kg.m −3 )
líquido, -78,2 °C 16.08
gás, -78,2 °C 8,86
gás, 15 °C 5,84
gás, 20,1 °C 5.716
gás, 24 °C 5.734

A densidade de vapor é 4,823 (ar = 1), gravidade específica a 21 °C é 4,773 (ar = 1) e volume específico a 21 °C é 0,1748 m3 /kg.

Usos

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O hexafluoroetano é usado como um decapante versátil na fabricação de semicondutores.[3] Ele pode ser usado para gravação seletiva de óxidos e silícios metálicos versus seus substratos metálicos e também para gravação de dióxido de silício sobre silício. As indústrias de fabricação de alumínio primário e semicondutores são os principais emissores de hexafluoretano usando o processo Hall-Héroult .[4]

Efeitos ambientais

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Séries temporais de hexafluoretano em várias latitudes.

Devido à alta energia das ligações CF, o hexafluoretano é quase inerte e, portanto, atua como um gás de efeito estufa extremamente estável, com uma meia vida atmosférica de 10.000 anos (outras fontes apontando 500 anos). [5] Tem um potencial de aquecimento global (GWP) de 9200 e um potencial de destruição do ozônio (ODP) de 0. O hexafluoretano está incluído na lista de gases de efeito estufa do IPCC.

O hexafluoretano não existia em quantidades significativas no meio ambiente antes da fabricação em escala industrial. A concentração atmosférica de hexafluoroetano atingiu 3 pptv no início do século XXI. [6] Suas bandas de absorção na parte infravermelha do espectro causam um forçamento radiativo de cerca de 0,001 W/m2. .

Veja também

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Referências

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  1. ↑ Zeng, S.X.; Simmons, R.O.; Timms, D.N.; Evans, A.C. (1999). «Dynamics and structure of solid hexafluoroethane». Journal of Chemical Physics. 110 (3): 1650–61. Bibcode:1999JChPh.110.1650Z. doi:10.1063/1.477806 
  2. ↑ Helmut Schan: Handbuch der reinsten Gase. Springer, 2005, ISBN 978-3-540-23215-5, S. 307.
  3. ↑ PubChem. «Hexafluoroethane». pubchem.ncbi.nlm.nih.gov (em inglês). Consultado em 10 de novembro de 2022 
  4. ↑ Marks, Jerry; Kantamaneni, Ravi; Pape, Diana; Rand, Sally (8 de abril de 2013). «Protocol for Measurement of Tetrafluoromethane and Hexafluoroethane from Primary Aluminum Production». Hoboken, NJ, USA: John Wiley & Sons, Inc.: 1032–1036. Consultado em 10 de novembro de 2022 
  5. ↑ «Perfluoroethane CASRN: 76-16-4». TOXNET Toxicology Data Network. National Library of Medicine. 25 de outubro de 2016 
  6. ↑ «Climate Change 2001: The Scientific Basis». Consultado em 2 de junho de 2007. Arquivado do original em 15 de junho de 2007