Ultravysoké vakuum je vakuové prostředí o tlaku menším než 10−6 Pa; vytváří se odčerpáváním plynů. Střední volné dráhy molekul plynů v takovém prostředí přesahují 10 km, takže proudění plynu je molekulární a molekuly plynu se častěji srážejí se stěnami nádob než s jinými molekulami; téměř všechny interakce molekul tak probíhají na površích uvnitř nádoby.
Ultravysoké (a extrémně vysoké) vakuum je důležité pro mnoho oblastí vědeckého výzkumu. Experimenty v povrchových vědách často vyžadují chemicky čisté povrchy prodté jakýchkoliv adsorbovaných příměsí. Při analýze povrchů nástroji, jako jsou rentgenová fotoelektronová spektroskopie a rozptyl nízkoenergetických elektronů, je pro průchod elektronů nebo svazků iontů nutný velmi nízký tlak. V takovém prostředí se udržují také urychlovače částic, jako je Velký hadronový urychlovač.[1]
Ultravysoké vakuum vyžaduje:
Ultravysoké vakuum se měří neabsolutními měřidly jako vlastnost vakua závislá na tlaku;[2] Tato měřidla musí být kalibrovaná.[3]
Velmi nízké tlaky se měří magneticky na základě závislosti velikosti proudu v náhodném výboji v plynu na intenzitách elektrického magnetického pole.
Ultravysoké vakuum se měří iontovými měřidly, pomocí horkého vlákna nebo obráceného magnetronu.
V každé vakuové soustavě postupně uniká plyn dovnitř komory, čímž pomalu navyšuje tlak, není-li odčerpáván.[4]
Rychlost vnikání plyn se zpravidla měří v mbar.L/s nebo torr.L/s. Vnikání plynů se nelze zcela vyhnout, ale pokud probíhá příliš rychle, tak může zpomalit i znemožnit dosažení potřebného nízkého tlaku.
V soustavách pro ultravysoké vakuum dochází k odplynovávání, a to jak na površích, tak v samotných materiálech. Uvnitř materiálů se jeho omezení dosahuje výběrem materiálů s nízkým tlakem páry (jako jsou například skla, nerezová ocel, a keramika) na všech vnitřních součástech. Za velmi nízkých tlaků se mohou odplynovávat i materiály běžně nepovažované za absorbenty, jako například většina plastů a některé kovy. Obzvláště nevhodné jsou nádoby vyrobené z látek s vysokou propustností pro plyny, jako je palladium.
Menší potíže představuje odplyňovávání z povrchů. Při velmi nízkých tlacích seu na stěnách adsorbuje větší množství plynu, něž jaké se pohybuje uvnitř nádoby, takže vnitřní povrch má při vytváření ultravysokého vakua větší význam objem. Významným zdrojem odplynování je voda, protože tenké vrstvy vodní páry při vystavení komory vzduchu rychle adsorbují všechny další látky. Voda se odpařuje příliš pomalu, než aby ji za pokojové teploty bylo možné zcela odstranit, ale dostatečně rychle, aby udržovala stálou míru kontaminace. Odstranění vody a dalších plynů zpravidla vyžaduje zahřátí zařízení na 200 až 400 °C za současného používání vývěv. Během používání komory lze její stěn chladit kapalným dusíkem, čímž dochází k dalšímu omezení odplynovávání.
Žádná vývěva není schopna pracovat v celém rozmezí mezi atmosférickým tlakem a ultravysokým vakuem, proto se používají soupravy vývěv několika různých druhů, přizpůsobené jednotlivým úrovním tlaku. Nejprve se většina plynu odsaje hrubovacím čerpadlem. Následuje jedna nebo více nízkotlakých vývěv, jako jsou:
U zařízení po ultravysoké vakuum se nejčastěji používají těsnění vyrobená z mědi; s jejich pomocí lze udržet tlaky snížené až na 10−10 Pa. Přestože jsou většinou považována za jednorázová, tak je zkušení pracovníci dokáží využít vícekrát, dokud jsou jejich konce ve výborném stavu. Při ucpávání plochých povrchů jsou více používány indiová těsnění.
Mnoho běžných materiálů není vhodných pro ultravysoké vakuum, protože má vysoký tlak páry, vysokou absorptivitu způsobující nežádoucí odplynovávání, nebo vysokou propustnost. Použít nelze: