10 µm (ou encore 10 000 nm) est la dimension caractéristique d'un procédé de fabrication des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, le principal fabricant de semi-conducteurs dans les années 1971-1972[1].
Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.
(en) Grant McFarland, Microprocessor Design : A Practical Guide from Design Planning to Manufacturing, McGraw-Hill Publishing Companies, Inc., , 408 p. (ISBN0071459510, DOI10.1036/0071459510)